Doprava zdarma pre objednávky nad 59,99 € s Packetou a SPS Boxmi.

Zistiť stav objednávky

Staňte sa súčasťou komunity milovníkov kníh z celého sveta a získajte hromadu výhod. Založiť účet zdarma

Doprava zadarmo s Packetou nad 59.99 €

Kuriér DPD 2.99 € Kuriér GLS 3.99 € Zberné miesto GLS 2.49 € SPS 3.99 € SPS Parcel Shop 2.99 € Packeta kurýr 3.99 € Slovenská pošta 3.99 € Zberné miesto DPD 2.99 € Packeta 2.99 €

Kontakt

Ako nakupovať

Pomoc

Môj účet

▸ Prázdny :-(

Doprava zdarma pre objednávky nad 59,99 € s Packetou a SPS Boxmi.

Knihy v angličtine > Technológie, strojárstvo, poľnohospodárstvo > Strojárstvo a materiály > Výrobné inžinierstvo > Priemyselná kontrola kvality > CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155

CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155

Name: CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
Brand: Cambridge University Press
SKU: 02439020
Price: 36.47 EUR
Availability: InStock
Author: Alexander A. Demkov
ISBN: 9781107408326

Alexander A. Demkov

Bill Taylor

H. Rusty Harris

Jeffery W. Butterbaugh

Jazyk

Angličtina

Kniha Brožovaná

Libristo kód: 02439020

Nakladateľstvo Cambridge University Press, jún 2014

To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into convent... Celý popis

Libristo kód: 02439020

88 b

36.47 €

Skladom u dodávateľa Odosielame za 14-21 dní

Až 30 dní na vrátenie tovaru

Zákazníci tiež kúpili

stirpe di Ippocrate e il male astuto. L'oncologia ieri, oggi, domani Vinicio Serino

Brožovaná

20.66 €

L'élevage des poules Fournier

Brožovaná

21.37 €

Plonger, cA ur ouvert Laurent Baudry

Adobe ePub DRM

7.49 €

Dannelse og den formorkede fornuft Poul Ferland

Brožovaná

11.04 €

Kanzler Klaus Von Bismarck Walter Flex

Brožovaná

11.75 €

Сонаты (1-5) для фортепиано. Геннадий Банщиков

Noty

14.08 €

LAKOTA SERPIERI

Pevná

24.92 €

Vue sur scenes Jean Behue

Brožovaná

8.10 €

Proceso de transicion al mercado, caso de la UAEMex, 2000-2010 Lisy Rubio-Hernández

Brožovaná

46.41 €

Anima mundi Susanna Tamaro

Brožovaná

16.10 €

Monarquía e islam político en Marruecos Mohamed Tozy

Brožovaná

24.21 €

LA VISION KING

Brožovaná

23.30 €

Petit Dictionnaire Francais-Arabe & Arabe-Francais de la Langue Parlee En Algerie & Dialogues Usuels ROLAND DE BUSSY-T

Brožovaná

35.46 €

Complete Works for Two Pianos/Fantastic Dances Shostakovich

Audio CD

13.06 €

Amos de la Noche: Edición Especial Victor Garcia Montero

Brožovaná

11.54 €

Si la musique doit mourir Tahar

Brožovaná

20.36 €

Bibliotherapeutische Thematisierung von Sterben und Tod unter Berucksichtigung religioeser Vielfalt an der Schule mit Foerderschwerpunkt koerperliche Peter Schneider

Brožovaná

26.95 €

Auf Der Suche Nach Der Bilanzwahrheit Carl Zimmerer

Brožovaná

53.20 €

Reviens Francoise Martin-McInnes

Brožovaná

14.99 €

Die Arterio-Ven sen Anastomosen Max Clara

Brožovaná

53.20 €

VOCABULARIO ILUSTRADO ESPAÑOL Joy Olivier

Brožovaná

24.11 €

Wie entscheiden wir uns?

Brožovaná

7.69 €

L'Eglise, La Republique Et La Liberte Clemenceau

Brožovaná

14.79 €

To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the mechanism of interface formation and defects at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials.