Kontakt
Ako nakupovať
Doručenie
Nákupný poradca
Nano-CMOS Gate Dielectric Engineering
Angličtina
459 b
Až 30 dní na vrátenie tovaru
Zákazníci tiež kúpili
/
Kniha
24.52
€
Covering the physics, materials, devices, and fabrication processes for high-k gate dielectric materials, this text systematically describes how the fundamental electronic structures and other material properties of the transition and rare earth metals affect the electrical properties of the dielectric films, the dielectric/silicon and the dielectric/metal gate interfaces, and the resulting device properties. Specific topics include the problems and solutions encountered with high-k material thermal stability, defect density, and poor initial interface with silicon substrate. The text also addresses the essence of thin film deposition, etching, and process integration of high-k materials in an actual CMOS process.
Informácie o knihe
Angličtina
Darujte túto knihu ešte dnes
Je to jednoduché
1 Pridajte knihu do košíka a vyberte možnosť doručiť ako darček 2 Obratom Vám zašleme poukaz 3 Knihu zašleme na adresu obdarovanéhoMohlo by vás tiež zaujímať
/
Pevná
362.60
€
/
Brožovaná
13.32
€
/
Brožovaná
35.83
€
Ahoj! Som Libroamiko, tvoj knižný radca.
Ako ti môžem pomôcť?